我的一九八五第九三八章 提案

三月十五日至三十一日第八届全国rd第一次会议在京举行。

大会审议和通过了李领导所作的《政f工作报告》。

《报告》提出经济体制改革的目标是建立社会主义市场经济体制要求从一九九三年起要力争在转换国有企业经营机制、发展各类市场、价格改革、劳动工资制度改革、推进社会保障和城镇住房制度改革、改善和加强宏观经济管理等方面取得突破性的进展。

----- “孙健你的提案我们都看了对国内光刻机的研发和生产现状一针见血振耳聩聋非常有远见性、紧迫性和可行性李领导让我交给你一项重要任务国z委在中官村高新区有偿划拨一千亩工业用地将工y部45所、中k院微电子研究中心和中k院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂所有从事光刻机半导体研发和生产任务的干部职工和生产设备全部从原单位剥离出来将所拥有的技术专利、干部职工和生产设备等整体注入国有资产评估公司评估2亿元国资占股40%淘宝控股公司投资3亿元占股60%注册资本金5亿元成立京城半导体设备股份有限责任公司你担任公司法人和董事长魏建国同志担任公司总经理国资股份中中k院占股17%工y部占股13%中官村管委会占股10%。

” 作为全国zx委员第一次参加全国zx会议参z议z是每个委员的职责孙健撰写了一份《研发新一代光刻机是中g跟上世界集成电路发展步伐的希望》的提案在大会上宣读。

从国内光刻机的研发和生产企业的现状与世界光刻机研发和生产公司的巨大差距大力发展新一代光刻机的必要性和紧迫感呼吁集中从事光刻机等半导体研发和生产的团队成立一家光刻机等半导体生产设备股份制公司采用市场化手段共同研发和生产新一代光刻机等半导体生产设备打破西方国家对先进光刻机等半导体生产设备的封锁。

建议以研发人员、生产人员、技术专利、生产设备和土地等投入以股份制公司形式在京城或沪海成立一家光刻机等半导体生产设备股份公司建立现代企业管理制度打破铁饭碗和干部终身制能者上劣者下按劳分配多劳多得上不封顶奖励管理层和技术团队股权与公司的兴衰息息相关以数据说话高屋建瓴见解独特可行性强字里行间流露出提升国内光刻机等半导体生产设备的焦急心情这份提案引起参会的科协和科技界等zx委员的高度关注和热议提案被领导们广泛传阅。

zx会议结束后孙健被朱副领导留了下来。

四月一日上午朱副领导在办公室接见了孙健电子工y部宗部长、中k院周院长、中官村管委会沈主任和中k院微电子研究中心半导体设备厂魏建国厂长在座。

八六年109厂与中k院半导体研究所、中k院计算技术研究所有关研制大规模集成电路部分单位合并成立中k院微电子研究中心原109厂变成了半导体设备厂。

“首长我服从安排请首长帮忙从三家研究所及其配套工厂的干部中再给公司配备一名副总经理、一名光刻机研究院院长和一名副院长我只负责公司的重大决策。

” 虽然孙健明白留他下来肯定谈论如何振兴国产光刻机的大事？但做梦也没有想到国家竟然将国内三家研发和生产光刻机等半导体生产设备的核心研究机构及其配套工厂交给他成立京城半导体设备股份有限责任公司（beijiorequipmentcorporation简称bsec）由淘宝控股公司投资控股担任法人领导国内光刻机等半导体生产设备的研发和生产。

任务艰巨而光荣！ 国内光刻机等半导体设备的研发和生产处于半停滞状态技术水平与当今世界光刻机龙头企业尼康公司相差十年以上。

六一年成立三年的gca（美国地球物理公司）造出了世界第一台接触式光刻机。

七十年代尼康公司和佳能公司开始进入这个领域作为光学行业的顶级巨鳄相机里的一块cmos感光元件技术难度都比当时的光刻机不知道高多少倍？如鱼得水！ 七十年代kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年cobilt公司做出了自动生产线但接触式机台后来被接近式机台所淘汰。

七三年拿到美国军方投资的p＆e公司推出了投影式光刻系统搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高因此迅速占领了市场。

七八年gca推出了世界上第一台商用步进光刻机dsw4800该机器使用g线汞灯和蔡司光学元件以10:1的比例将芯片线路成像到十毫米见方区域。

八零年尼康公司率先推出日本首台krf商用步进光刻机nsr-1010g能够以五倍的分辨率的减少实现1μm制程工艺生产比gca更高分辨率的镜头吸引客户。

ibm、ii、amd和hp等美国半导体公司在公司利益面前果断放弃美国利益纷纷掉头投入尼康公司的怀抱。

在尼康公司的打压下gca的高端市场份额不断减少在八五年、八六年损失一亿美元不得不裁员七成；八八年美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的gca为了与尼康竞争sematech（美国半导体制造技术战略联盟）资助gca开发成功krf光刻机实现了1μm制程工艺但尼康光刻机的制程工艺提升到800nmgca的高端市场份额没有多大起色。

六六年中k院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。

八一年中k院半导体研究所研制成功jk-1半自动接近式光刻机。

八二年109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功kha75-1型半自动接近式光刻机在指标上已经完全对标日本的500-f型。

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