重生归来我誓登权力巅峰第299章 加快专利申请

中微公司实验室内部威廉姆斯团队进行关键技术验证。

李明作为杰凡星投资的法人代表专程来了解最新进展。

“这是我们的创新方案。

”威廉姆斯指着显微镜下的纳米光学涂层“通过特殊的材料配比和工艺控制我们实现了光透过率的大幅提升。

” 尹志绕继续补充道：“最新测试数据光透过率比传统提高了35%。

这意味着我们可以采用更长波长的光源方案实现与短波长相同的分辨率。

” “完全规避了美国的专利壁垒？”李明杰问出了关键。

“是的。

”威廉姆斯自信地说“传统光刻机都在追求更短的波长我们另辟蹊径通过创新的光学系统设计和纳米涂层技术找到了一条全新的技术路线。

” 正说着中科院光电所的张教授走进实验室。

作为国内纳米光学领域的权威他受邀来验证这项突破性技术。

“理论模型很完善。

”张教授看完测试数据后说道“关键是工艺稳定性。

目前的良品率如何？” “首批样品测试的良品率达到85%。

”威廉姆斯说“我们正在优化工艺参数力争提高到90%以上。

” “这个数据很惊人。

”张教授赞叹道“要知道即使是ASML他们新技术的良品率也很难达到这个水平。

” 李明杰追问：“量产还有哪些难点？” “主要是三个方面。

”尹志绕说“首先是纳米工艺涂层材料的批量生产目前正在与南大光电合作开发。

其次是精密控制系统需要进一步提高稳定性。

最后是集成要确保各个环节无缝衔接。

” “时间预估？” “如果一切顺利完成三个月内就可以工程样机。

”威廉姆斯说“接下来就是反复测试和优化为量产做准备。

” 就在此时中微的法务总监匆匆赶来：“刚收到消息ASML正在申请一批新专利可能会影响我们的技术路线。

” 威廉姆斯仔细查看专利申请文件立即说道：“不用担心。

他们的专利主要围绕短波长光源与我们的技术路线完全不同。

这反而证明我们走对了路。

” “要抢先布局。

”李明杰说“要让业务团队加快专利申请在全球主要市场同步推进。

另外核心技术资料要做好防护措施。

” “已经做了。

”尹志绕说“我们采用分段保密方式将核心技术分割成多个模块分别存储和管理。

任何单一泄露都不会影响整体技术安全。

” 这时市科技局的工作人员来访带来了一个好消息：星城市的半导体创新中心即将投用将为中微提供更好的研发环境。

“太及时了。

”威廉姆斯说“我们正需要更先进的实验设备。

特别是超定位测试平台对工艺优化至关重要。

” 李明杰立即拨通了哥哥李一凡的电话。

作为分管经济的省委常委他需要了解这一重要进展。

“技术突破有了但量产还需要时间。

”李明杰简要汇报“不过最令人欣慰的是我们找到了一条完全自主的技术路线。

” “这是关键。

”李一凡说“技术创新不能总是跟在别人后面。

要利用这个机会在新的模仿上实现超越。

” 作为光刻胶研发的领军企业南大光电与中微的技术突破密切相关。

“这是最新的测试报告。

”南大光电技术总监王立新表示“我们开发的新型光刻胶完全匹配中微米的纳米光学系统。

不仅提高了分辨率还提高了曝光效率。

” “专利布局做的怎么样？”李明杰问。

“已经在美国、日本、同步申请。

”王立新说“这次我们总结了之前的教训在配方和工艺上欧洲都做了充分的专利保护。

即使是美国企业也别想仿制同时也加强了我们的专利壁垒。

” 正说着中科院材料所的专家组来访。

他们正在指挥特种气体和高纯靶材的研发这些都是半导体制造的关键材料。

“制气吸气技术取得重大突破。

”专家组长汇报“纯度已达到7个9完全满足28nm程要求。

” 李明杰仔细翻看测试数据：“产量规模如何？” “目前月产能3吨年底可达到10吨。

”专家表示“关键设备已经国产化不用担心断供风险。

” 就在今年星城产投董事长赵维康来电表示省里主管工业的副省长陈松年要来视察。

“正好。

”李明杰说“让各家企业准备一下重点展示我们在材料领域的突破。

” 半个小时后陈松年一行到达南大光电。

“听说你们在光刻胶领域有重要突破？”陈松年问道。

“是的。

”王立新介绍“我们开发的新型光刻胶性能已经达到国际先进水平。

最关键的是完全掌握自主知识产权。

” “成本呢？” “目前比进口产品高15%左右。

”王立新说“但随着产能提升成本会逐步上升。

更重要的是有了自主供应渠道不用担心断供风险。

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